中國發(fā)明與專利雜志介紹

《中國發(fā)明與專利》是一本由國家知識產(chǎn)權(quán)局主管，知識產(chǎn)權(quán)出版社有限責(zé)任公司;中國發(fā)明協(xié)會主辦的面向國內(nèi)外公開發(fā)行的工業(yè)類期刊，該刊主要報(bào)道工業(yè)相關(guān)領(lǐng)域的研究成果與實(shí)踐。該刊已入選統(tǒng)計(jì)源期刊。影響因子為0.64。《中國發(fā)明與專利》主要內(nèi)容欄目有理論與方法、分析與應(yīng)用、業(yè)界與思考、本刊互動。

《中國發(fā)明與專利》主要發(fā)文機(jī)構(gòu)有：國家知識產(chǎn)權(quán)局（發(fā)文量1724篇），該機(jī)構(gòu)主要研究主題為“審查；知識產(chǎn)權(quán)；產(chǎn)權(quán)；權(quán)利；專利審查”；《中國發(fā)明與專利》編輯部（發(fā)文量141篇），該機(jī)構(gòu)主要研究主題為“知識產(chǎn)權(quán)；產(chǎn)權(quán)；董事；董事長；專利信息”；國家知識產(chǎn)權(quán)局專利檢索咨詢中心（發(fā)文量119篇），該機(jī)構(gòu)主要研究主題為“知識產(chǎn)權(quán)；產(chǎn)權(quán)；申請人；專利權(quán)；利權(quán)”。

《中國發(fā)明與專利》主要發(fā)文主題有知識產(chǎn)權(quán)、產(chǎn)權(quán)、企業(yè)、專利權(quán)、利權(quán)、審查、侵權(quán)、權(quán)利、專利法、糾紛。其中又以”知識產(chǎn)權(quán)（1668篇）”居于榜首，發(fā)文量第二的是“產(chǎn)權(quán)”（1555篇），發(fā)文量第三的是“企業(yè)”（461篇），發(fā)文主題最少的是“糾紛”，僅發(fā)文236篇。

中國發(fā)明與專利影響力及榮譽(yù)

• 統(tǒng)計(jì)源期刊(中國科技論文優(yōu)秀期刊)
• 知網(wǎng)收錄(中)
• 維普收錄(中)
• 萬方收錄(中)
• 國家圖書館館藏
• 上海圖書館館藏
• 中國優(yōu)秀期刊遴選數(shù)據(jù)庫
• 中國期刊全文數(shù)據(jù)庫（CJFD）
• 中國科技期刊優(yōu)秀期刊

中國發(fā)明與專利投稿注意事項(xiàng)

1、來稿要求：

本刊歡迎下列來稿：工業(yè)及相關(guān)學(xué)科領(lǐng)域的研究方面的論著，反映國內(nèi)外工業(yè)學(xué)術(shù)動態(tài)的述評、論著、綜述、講座、學(xué)術(shù)爭鳴的文稿，以及有指導(dǎo)意義的工業(yè)書刊評價(jià)等。文稿應(yīng)具科學(xué)性、先進(jìn)性、新穎性和實(shí)用性，內(nèi)容翔實(shí)，簡明扼要，重點(diǎn)突出，文字?jǐn)?shù)據(jù)務(wù)求準(zhǔn)確，層次清楚，標(biāo)點(diǎn)符號準(zhǔn)確，圖表規(guī)范，書寫規(guī)范。本刊不接受已公開發(fā)表的文章，嚴(yán)禁一稿兩投。對于有涉嫌學(xué)術(shù)不端行為的稿件，編輯部將一律退稿，來稿確保不涉及保密、署名無爭議等，文責(zé)自負(fù)。

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述評、專家論壇、指南解讀欄目來稿請附第一作者及通信作者的個(gè)人簡介及近照。個(gè)人簡介內(nèi)容包括職稱、職務(wù)、學(xué)術(shù)兼職、主要研究領(lǐng)域、主要研究成果、所獲重大榮譽(yù)獎(jiǎng)項(xiàng)等，字?jǐn)?shù)以 100～300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜，格式為“.jpg”，像素不得低于 300 dpi。

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